高真空蒸发镀膜设备
蒸发式镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阴丝上的金
属丝（铝丝）等熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑
高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
该设备具有：结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、
生产效率高、操作方便，能耗低性能稳定等优点。广泛应用于汽车、音
响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光杯、化妆品、玩具等行
业。
可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龙、金属、波丽、玻
璃、陶瓷、TPU等。
型号JTZ-1000 JTZ-1200 JTZ-1300 JTZ1400
真空室尺寸￠1400×1400MM￠1200×1500MM￠1300×1800MM￠1400×
1800MM
制膜种类：金属膜、半透明膜、不导电膜、电磁屏蔽膜、介质膜等
电源类型：电阻蒸发电源、直流磁控电源、射频电源
溅射及电极结构：圆柱磁控靶、平面矩形靶、孪生靶、蒸发电极
真空室结构：立式双开门、立式单开门、后置抽气系统/卧式单开门、侧
置抽气系统
极限真空：4.0×10-4PA
真空系统组成：扩散泵+罗茨泵+机械泵+维持泵
抽气时间：从大气抽至8.5×10-3PA，小于或等于15分钟
工件运动方式：公自转/变频调速
控制方式：手动/自动一体化式，触摸屏+PLC
备注：以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做
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